Optimisation of ZnO Thin Films

Optimisation of ZnO Thin Films

AngličtinaPevná vazbaTisk na objednávku
Nagar, Saurabh
Springer Verlag, Singapore
EAN: 9789811008085
Tisk na objednávku
Předpokládané dodání v pondělí, 1. července 2024
2 633 Kč
Běžná cena: 2 925 Kč
Sleva 10 %
ks
Chcete tento titul ještě dnes?
knihkupectví Megabooks Praha Korunní
není dostupné
Librairie Francophone Praha Štěpánská
není dostupné
knihkupectví Megabooks Ostrava
není dostupné
knihkupectví Megabooks Olomouc
není dostupné
knihkupectví Megabooks Plzeň
není dostupné
knihkupectví Megabooks Brno
není dostupné
knihkupectví Megabooks Hradec Králové
není dostupné
knihkupectví Megabooks České Budějovice
není dostupné

Podrobné informace

This monograph describes the different implantation mechanisms which can be used to achieve strong, reliable and stable p-type ZnO thin films. The results will prove useful in the field of optoelectronics in the UV region. This book will prove useful to research scholars and professionals working on doping and implantation of ZnO thin films and subsequently fabricating optoelectronic devices. The first chapter of the monograph emphasises the importance of ZnO in the field of optoelectronics for ultraviolet (UV) region and also discusses the material, electronic and optical properties of ZnO. The book then goes on to discuss the optimization of pulsed laser deposited (PLD) ZnO thin films in order to make successful p-type films. This can enable achievement of high optical output required for high-efficiency devices. The book also discusses a hydrogen implantation study on the optimized films to confirm whether the implantation leads to improvement in the optimized results.

EAN 9789811008085
ISBN 9811008086
Typ produktu Pevná vazba
Vydavatel Springer Verlag, Singapore
Datum vydání 6. června 2017
Stránky 83
Jazyk English
Rozměry 235 x 155
Země Singapore
Sekce General
Autoři Chakrabarti, Subhananda; Nagar, Saurabh
Ilustrace XIX, 83 p. 67 illus., 36 illus. in color.
Edice 1st ed. 2017